GS Nanotech впервые в России освоит 3D-корпусирование микросхем- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  GS Nanotech впервые в России освоит 3D-корпусирование микросхем

Новости

GS Nanotech впервые в России освоит 3D-корпусирование микросхем
11.06.2014, 07:54:20 
 

Центр разработки и производства микроэлектронной продукции GS Nanotech планирует начать корпусирование микросхем по технологии 3D TSV. Производственные мощности завода, входящего в кластер «Технополис  GS» холдинга GS Group в Калининградской области, позволят ему первым в России использовать эту передовую технологию в коммерческих целях.

Завод GS Nanotech, начавший работу в 2012 году, на сегодня является единственным предприятием в России, которое занимается массовым корпусированием  и тестированием микропроцессоров, в том числе по технологии многокристальных сборок SiP (System-in-Package — «система-в-корпусе»). Внедрение методики 3D TSV позволит уменьшить размеры чипов, снизить энергопотребление, а также себестоимость микросхемы и, как следствие, конечного устройства.

По технологии 3D-интеграции микросхем (TSV) кристаллы располагаются друг над другом, при этом между ними создаются вертикальные соединения. Отмечается, что развитие 3D-корпусирования «откроет широкие перспективы для нового скачка современных технологий в России». Новая методика будет способствовать развитию внутреннего рынка разработки и производства микроэлектромеханических систем (MEMS), оптоэлектроники, гибридных модулей, LED, силовой  электроники и других современных направлений электронной промышленности.

Микросхемы, выпускаемые заводом GS Nanotech, могут использоваться в любых устройствах бытовой и промышленной электроники. Развитие 3D-корпусирования в России упростит логистику и сократит транспортные расходы на перевозку компонентов. Предполагается, что такие микросхемы будут применяться в продукции для оборонной промышленности и гражданского назначения.

Общая сумма инвестиций в проект, по предварительным оценкам, составит около 10 миллионов долларов США. В неё войдут затраты на оборудование, программное обеспечение, а также обучение персонала предприятия. Производство будет освоено в 2015–2016 гг.

По прогнозу Yole Development, чипы, собранные по технологии 3D TSV, которую планирует запустить GS Nanotech, займут 9 % всего полупроводникового рынка в 2017 году. Ожидается рост продаж изделий 3D TSV с $5,5 млрд в 2013 году до $38,4 млрд в 2017-м. 

Источник:


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: