TSMC приступила к разработке технологий выпуска микрочипов с нормами менее 10 нм- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  TSMC приступила к разработке технологий выпуска микрочипов с нормами менее 10 нм

Новости

TSMC приступила к разработке технологий выпуска микрочипов с нормами менее 10 нм
06.04.2015, 19:25:49 
 
p>Компания Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) поделилась планами по внедрению новых технологий производства микрочипов.

По словам Сака Ли (Suk Lee; на фото), руководителя подразделения TSMC Design Infrastructure Marketing, в настоящее время активно идёт подготовка к началу изготовления продукции по методике с нормами 10 нанометров. Сообщается, что проекты таких микрочипов прорабатываются с более чем десятью компаниями. Массовое производство 10-нанометровых изделий должно начаться ориентировочно в 2017 году.

Более того, TSMC уже изучает возможность производства процессоров по технологиям с нормами менее 10 нм. «Мы работаем над технологическими платформами следующего поколения. У нас есть отдельная команда, которая сфокусирована на методиках с нормами менее 10 нанометров. Такие технологии станут доступны в 2017–2019 гг. Мы не думаем, что закон Мура перестанет действовать в обозримом будущем», — заявил господин Ли.

Эмпирический закон Мура, напомним, гласит, что количество транзисторов, размещаемых на кристалле интегральной схемы, удваивается примерно каждые 18–24 месяца. Иными словами, производительность процессоров должна удваиваться каждые полтора года из-за сочетания роста количества транзисторов и быстродействия каждого из них.

По словам господина Ли, TSMC изучает возможность применения новых материалов и транзисторов с модифицированной структурой для дальнейшего совершенствования технологических процессов. По всей видимости, после освоения массового производства 10-нанометровых изделий будет внедрена методика с нормами 7 нанометров. 

Источник:


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: