GlobalFoundries: Технологические процессы 7 нм и 10 нм будут разработаны внутри компании- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  GlobalFoundries: Технологические процессы 7 нм и 10 нм будут разработаны внутри компании

Новости

GlobalFoundries: Технологические процессы 7 нм и 10 нм будут разработаны внутри компании
12.10.2015, 06:00:00 
 
p>Компания GlobalFoundries работает над своими собственными технологическими процессами с разрешением литографического оборудования 7 и 10 нанометров и не планирует лицензировать их у сторонних компаний, недавно заявил глава GF в интервью. Контрактный производитель микросхем рассчитывает, что специалисты из микроэлектронного подразделения IBM помогут ему разработать техпроцессы мирового класса собственными силами.

GlobalFoundries, которая когда-то была производственным подразделением Advanced Micro Devices, исторически задерживалась с представлением продвинутых технологических процессов в срок. В последние годы руководство GlobalFoundries сделало многое, чтобы увеличить конкурентоспособность производителя: компания приобрела Chartered Semiconductor, наняло большое количество специалистов извне и стало частью в различных индустриальных инициативах и консорциумах. Хотя всё вышеперечисленное в итоге сделало GlobalFoundries вторым–третьим по величине контрактным производителем микросхем в мире, проблемы компании с передовыми технологиями производства продолжались.

В производственном комплексе GlobalFoundries Fab 1

В производственном комплексе GlobalFoundries Fab 1

GlobalFoundries испытывала проблемы с выходом годных чипов, производимых по технологии 32 нм с использованием кремния на изоляторе (silicon on isulator, SOI); компания опоздала с представлением 28-нм технологий производства; производителю пришлось отменить низковольтный 28-нм техпроцесс с применением подложек SOI с полностью обеднённым изолятором (fully-depleted silicon-on-insulator, FD-SOI); GlobalFoundries опаздывала с гибридным 14-нм техпроцессом 14XM.

В попытке догнать конкурентов и получить новых клиентов GlobalFoundries лицензировала 14-нм технологические процессы у Samsung Foundry. Использование норм производства 14 нм позволят GlobalFoundries производить сложные микросхемы, включая микропроцессоры для главного клиента компании — Advanced Micro Devices. Кроме того, поскольку фабрики GF и Samsung синхронизированы, то клиенты последней могут обращаться к первой, если им требуется дополнительный объём микросхем. Тем не менее, в будущем компания рассчитывает разрабатывать собственные процессы производства самостоятельно при помощи объединённой команды инженеров из IBM и GlobalFoundries под руководством технического директора Гэри Паттона (Gary Patton).

В производственном комплексе GlobalFoundries Fab 8

В производственном комплексе GlobalFoundries Fab 8

«Мы разрабатываем наши собственные технологии [7 нм и 10 нм]», — сказал Санджай Джа (Sanjay Jha), исполнительный директор GlobalFoundries, в интервью EETimes. «Весь смысл приобретения микроэлектронного бизнеса IBM заключался в использовании технологий и технологов IBM для ускорения разработки наших собственных передовых технологий производства».

Господин Джа не рассказал каких-либо подробностей о сроках появления 10-нм технологического процесса GlobalFoundres или же о его характеристиках. Тем не менее, учитывая, что Samsung Electronics и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. планируют начать производство микросхем с использованием 10-нм техпроцессов в конце 2016 или в начале 2017 года, очевидно, что GlobalFoundries сможет предложить аналогичные услуги несколько позже конкурентов. Чтобы начать производство примерно в одно время с Samsung и TSMC, GlobalFoundries потребовалось бы предоставить своим клиентам ранние комплекты проектирования (process design kits, PDKs) микросхем три–шесть месяцев назад. Поскольку технология находится в стадии разработки, PDK до сих пор недоступны для ключевых клиентов компании.

В производственном комплексе GlobalFoundries в Ист Фишкилл, Нью Йорк. Фото - Tom Way Photography

В производственном комплексе GlobalFoundries в Ист Фишкилл, Нью Йорк. Фото - Tom Way Photography

Руководитель GlobalFoundries уверен, что литографические сканеры, работающие в диапазоне EUV (extreme ultraviolet — излучение с длиной волны 13,5 нм), не будут готовы к коммерческому применению раньше, чем в 2018–2019 гг. Как следствие, 10-нм технологический процесс компании не будет использовать технологию EUV. Судя по всему, 7-нм техпроцесс GlobalFoundries будет опираться на иммерсионную литографию с ультрафиолетовым светом с длиной волны в 193 нм.

«Мы не ожидаем EUV ранее, чем в 2018 или 2019 году», — сказал господин Джа. «Мы сфокусируемся на улучшение оптических инструментов для 10-нм и 7-нм технологических процессов. Как только EUV стабилизируется, мы будем использовать эту технологию для некоторых слоёв. Кроме того, мы используем EUV, чтобы ускорить создание прототипов».

Хотя технология 10 нм очень важна для GlobalFoundries и её клиентов (а значит её постараются сделать максимально конкурентоспособной), есть вероятность, что компания сосредоточится на создании передовой технологии 7 нм. Учитывая большое количество экспериментов IBM в области производства микросхем, результаты могут сильно впечатлить индустрию. Фактически, на 7 нм многие передовые технологии IBM могут стать доступны для массового рынка благодаря GlobalFoundries. Разумеется, при условии, что последняя будет готова инвестировать в это крупные денежные средства.

Источники:


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: