Нанопечатное оборудование Canon способно выпускать 11-нм чипы- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  Нанопечатное оборудование Canon способно выпускать 11-нм чипы

Новости

Нанопечатное оборудование Canon способно выпускать 11-нм чипы
15.11.2015, 13:10:01 
 
p>С 4 по 6 ноября в Токио прошла очередная выставка Tokyo International Forum 2015. Одним из центров притяжения мероприятия стала экспозиция компании Canon — Canon Expo. Но прежде отметим, что компания известна не только своими фотокамерами. Это один из немногих в мире производителей оборудования для производства полупроводников. Как и её коллеги по цеху, Canon столкнулась с трудностями при создании эффективных инструментов для освоения полупроводниковой литографии с нормами менее 20 нм. Проблему приходится решать многократным экспонированием с использованием двух и более фотошаблонов, что заставляет балансировать на грани прибыльности. Есть ли альтернатива? Для определённых задач, уверены в Canon, такая альтернатива есть.

Несколько лет назад компания Canon всерьёз взялась за создание оборудования с использованием нанопечатных технологий. Рабочим инструментом такого оборудования является условно простой трафарет для оттиска, а не лазер с его сложной оптической системой. Теоретически трафарет можно изготовить для выпуска полупроводников с любыми нормами производства без оглядки на длину волны актуальных сканеров. Это будет недёшево, но окупится при производстве. Также следует отметить, что нанопечатная литография работает заметно медленнее, чем лазерная. Этот недостаток (или особенность) можно компенсировать, разместив бок о бок несколько установок для печати, благо они значительно меньше по габаритам, чем традиционный сканер.

Трафарет Canon для нанопечатной литографии с нормами 11 нм (Nikkei Business Publications)

Трафарет Canon для нанопечатной литографии с нормами 11 нм (Nikkei Business Publications)

На выставке Tokyo International Forum 2015 компания Canon показала трафарет и 300-мм полупроводниковую пластину с 11-нм элементами, доказав возможность наладить выпуск передовых решений в самое ближайшее время. Впрочем, серийное нанопечатное литографической оборудование Canon будет ориентировано на чуть больший размер элемента. Ориентировочно — на 16-нм. Оборудование для таких задач компания начнёт поставлять в 2016 году. Следовательно, нанопечатная полупроводниковая продукция пойдёт потоком не позднее 2018 года.

300-мм полупроводниковая пластина с чипами, обработанная с помощью трафарета (Nikkei Business Publications)

300-мм полупроводниковая пластина с чипами, обработанная с помощью трафарета (Nikkei Business Publications)

Судя по всему, первым клиентом на нанопечатные станки Canon окажется компания Toshiba. Раньше неоднократно сообщалось, что Toshiba рассчитывает использовать нанопечать Canon для выпуска 15-нм флеш-памяти NAND-типа. Следует подчеркнуть, что нанопечатные технологии плохо подходят для выпуска логических микросхем. Трафареты испытывают физическую нагрузку в процессе работы, поэтому сравнительно быстро засоряются и разрушаются. И если «битую» ячейку в блоке NAND-флеш можно обойти кодом коррекции, то отключить блок в микропроцессоре — это всё равно, что признать микросхему негодной к использованию.

Наконец, у нанопечатной литографии есть ещё одна перспективная ниша применения — это производство высокоплотных магнитных пластин для жёстких дисков. Нанопечать позволяет создавать на пластине регулярную структуру из магнитных доменов, заключённых в обособленные островки с очень мелким шагом, недоступным для записи традиционными магнитными головками. Но это уже другая история.

Источник:


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: