TSMC вынуждена отложить освоение 3-нм техпроцесса на полгода из-за коронавируса- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  TSMC вынуждена отложить освоение 3-нм техпроцесса на полгода из-за коронавируса

Новости

TSMC вынуждена отложить освоение 3-нм техпроцесса на полгода из-за коронавируса
15.04.2020, 15:02:00 
 
p>По сообщениям тайваньских СМИ, компания TSMC приступила к серийному производству 5-нм полупроводниковой продукции. Пандемия коронавируса не оказала значительного влияния на внедрение данной технологии, однако совсем иначе сложилась ситуация с освоением 3-нм техпроцесса.

Недавно мы писали о том, что компания TSMC была вынуждена отложить начало опытного производства 3-нм чипов на четыре месяца. Теперь же сообщается, что задержка составит по меньшей мере полгода. Всё дело в трудностях с поставками необходимых производственных узлов, а также установкой уже имеющегося оборудования. В итоге ожидается, что первая 3-нм производственная линия на заводе Fab 18 будет оборудована и сможет быть запущена лишь в декабре этого года. Серийное же производство 3-нм чипов в результате начнётся не ранее 2022 года.

На новом заводе Fab 18 также располагаются и 5-нм линии. Их оснащение было завершено задолго до коронавирусного кризиса, так что начало массового производства на них не было отложено. TSMC помогло и строгое соблюдение распоряжений тайваньского правительства, которое предприняло жёсткие меры для предотвращения массового заражения населения COVID-19, за счёт чего её производство почти не пострадало.

Завод TSMC Fab 18

Завод TSMC Fab 18

Сообщается, что сейчас 5-нм линии работают во всю силу. Правда не уточняется, насколько высок выход годной продукции. Обычно после запуска производства по новому техпроцессу требуется время на оптимизацию технологии и увеличение выхода годной продукции. А в данном случае сказывается и применение литографии в сверхжёстком ультрафиолете (EUV, Extreme ultra violet) — технологии, которая ещё не столь хорошо отлажена, как прежняя литография в глубоком ультрафиолете (DUV, Deep ultra violet).


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: