Intel уточнила планы третьего этапа расширения 10-нм фабрики D1X в Орегоне- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  Intel уточнила планы третьего этапа расширения 10-нм фабрики D1X в Орегоне

Новости

Intel уточнила планы третьего этапа расширения 10-нм фабрики D1X в Орегоне
07.02.2019, 06:48:13 
 
p>Intel обнародовала первые подробности своих планов по расширению фабрики в штате Орегон. Как выяснилось, компания намерена перейти к третьей фазе развития завода D1X, причём по масштабам она будет схожа с двумя уже реализованными этапами. Следовательно, как и оба предыдущих здания, новое должно получить площадь 102 тысячи квадратных метров.

Строительство новых производственных мощностей в Орегоне начнётся в этом году. Intel планирует выполнить этот масштабный проект в течение 18 месяцев. Затем ещё несколько месяцев уйдёт на установку оборудования. В общей сложности инвестиции оцениваются в несколько миллиардов долларов.

Соблюдая правила подготовки к строительству, компания уведомила проживающих недалеко от кампуса Ronler Acres пятьдесят жителей о своем намерении построить третью фазу завода D1X. Кроме того, Intel придётся возвести новое технологическое здание с аварийными генераторами и инженерными сетями. Процессорный гигант должен раскрыть ещё ряд подробностей о своей будущей фабрике D1X Phase 3, включая фактические производственные мощности и технологии, которые будут использоваться.

Сегодня у Intel есть два завода, в Израиле и Орегоне, готовые производить чипы с использованием собственного 10-нм технологического процесса. Но ещё неизвестно, сколько дополнительных 10-нм мощностей понадобится компании, учитывая нынешний дефицит процессоров.

О планах расширения своих производственных мощностей в Орегоне, Ирландии и Израиле Intel объявила в конце 2018 года. Год назад она заявила, что построит Fab 42 в штате Аризона для выпуска чипов с использованием 7-нм техпроцесса, основанного на методах глубокой (DUV) и крайней (EUV) ультрафиолетовой литографии. Также в январе текущего года стало известно, что Intel намерена создать ещё один крупный завод в Израиле.


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: