p>Китайская компания China Electronics Technology Group сообщила об успешном производстве аппарата для ионной имплантации, полностью сделанного с использованием отечественных технологий. Это стало ещё одним прорывом на пути к независимому производству промышленного оборудования для выпуска чипов и смягчению влияния санкций.

Аппараты для ионной имплантации в полупроводниковой промышленности используются как для создания плёнок, так и для легирования (внесения примесей) в рабочие слои будущих микросхем. В зависимости от мощности ионного луча проникновение может иметь разную глубину. Установка компании China Electronics Technology с максимальной мощностью луча до 6 миллионов электрон-вольт рассчитана на среднюю и большую глубину воздействия.

Использование новой установки позволяет китайским производителям чипов выпускать полупроводники с нормами до 28 нм. Для организации выпуска продукции по более тонким техпроцессам Китай остаётся зависимым от иностранных производителей оборудования, в частности, от немецких, если говорить о нише ионной имплантации.