ASML отгрузила сотый сканер для EUV-литографии- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  ASML отгрузила сотый сканер для EUV-литографии

Новости

ASML отгрузила сотый сканер для EUV-литографии
20.01.2021, 18:49:00 
 
p>Холдинг ASML, выпускающий литографическое оборудование для изготовления полупроводниковых компонентов, отчитался о финансовых итогах прошедшего года. Компания смогла отгрузить сотый сканер для работы с EUV, а в текущем году профильную выручку она рассчитывает увеличить на 30 %. Начинаются работы над созданием EUV-оборудования следующего поколения.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Прошлый год ASML завершила с рекордной выручкой в сумме 14 млрд евро, которая оказалась на 18 % больше показателя 2019 года. Из этой суммы около 4,5 млрд евро пришлось на выручку от реализации оборудования, предназначенного для работы со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Оно применяется в прогрессивных техпроцессах компаниями TSMC и Samsung, корпорация Intel до недавних пор рассчитывала внедрить EUV в своём 7-нм техпроцессе.

Чистая прибыль ASML выросла с 2,6 до 3,6 млрд. В текущем году компания тоже рассчитывает неплохо заработать. По крайней мере, выручка от реализации EUV-оборудования должна увеличиться на 30 % до 5,8 млрд евро. Оптимизма поставщику добавляют планы TSMC потратить рекордные $28 млрд, основная часть этой суммы будет направлена на освоение передовых техпроцессов, которые требуют применения EUV-литографии.

Ушедший год символизировал для ASML важную веху — компанией был отгружен сотый сканер для работы с EUV-литографией. В четвёртом квартале ASML получила заказы на поставку ещё шести EUV-сканеров, в ближайшее время компания получит за них около 6,2 млрд евро. На находящемся в эксплуатации EUV-оборудовании ASML в прошлом году было выпущено 26 млн кремниевых пластин, девять миллионов из этого количества были обработаны в четвёртом квартале.

Примерно через пять лет отрасль потребует внедрения литографического оборудования для EUV нового поколения, использующего высокоапертурную оптику. Её ASML сейчас разрабатывает совместно с компанией Zeiss. Первые оптические модули нового поколения будут собраны к концу текущего года, в следующем прототип оборудования появится в лаборатории ASML, а клиенты получат первые экземпляры новых сканеров не ранее 2023 года. И лишь в 2025 году начнётся массовое внедрение подобных литографических машин в массовом производстве.

В текущем году, помимо сохраняющегося высокого спроса на процессоры различных типов, рынок литографического оборудования будет подогреваться оживлением в сегменте оперативной памяти и на направлении автомобильных компонентов. Последние остаются в дефиците, их кто-то должен производить, а свободных мощностей почти не осталось. Придётся вводить дополнительные, как считают участники рынка.

Источник:


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: